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光掩膜
更新 2026-08-17 20:40:03
| 词语 | 光掩膜 |
|---|---|
| 拼音 | guāng yǎn mó |
| 拼音字母 | guang yan mo |
| 拼音首字母 | gym |
| 注音 | ㄍㄨㄤ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ |
| 注音符号 | ㄍㄨㄤ ㄧㄢ ㄇㄛ |
扩展释义
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。
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更新 2026-08-17 20:40:03
| 词语 | 光掩膜 |
|---|---|
| 拼音 | guāng yǎn mó |
| 拼音字母 | guang yan mo |
| 拼音首字母 | gym |
| 注音 | ㄍㄨㄤ ㄧㄢˇ ㄇㄛˊ |
| 注音符号 | ㄍㄨㄤ ㄧㄢ ㄇㄛ |
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。